Розкриття основних процесів AMOLED: як передові технології відображення формують майбутнє

 На ринку споживчої електроніки малого та середнього розміру технологія дисплеїв AMOLED стала кращим вибором для смартфонів високого класу, пристроїв, що носяться, і продуктів із вигнутим екраном завдяки таким перевагам, як висока контрастність і гнучка здатність до згинання.

  Його основна структура включає світловипромінюючий шар OLED, задню панель TFT, металеві електроди, скло підкладки та корпус.

  Крім того, процес іонної імплантації (IMP) використовує BF3/PH3/H2 для створення легуючих атомів, а Xe служить нейтралізуючим газом для запобігання накопиченню заряду.

  Як компанія, що спеціалізується на дослідженні, розробці та виробництві технологій дисплеїв, CNK Electronics Co., Ltd.始终 залишається на передньому краї технологій, надаючи клієнтам різноманітні рішення для дисплеїв, включаючи модулі OLED, РК-екрани та індивідуальні РК-екрани.

  Основний виробничий процес AMOLED включає кілька високотехнічних процесів. У процесі TFT (BP) технологія низькотемпературного полікристалічного кремнію (LTPS) стала основною завдяки своїй високій мобільності електронів. Його структурний процес верхнього затвора включає такі етапи, як осадження буферного шару, імплантація канальних іонів, кристалізація лазерного відпалу (ELA), напилення металу затвора та імплантація витоку-стоку. Спеціальні гази відіграють вирішальну роль у осадженні, модифікації та травленні тонких плівок: наприклад, процеси PECVD використовують SiH₄/N₂O/NH3 для осадження тонких плівок a-Si/SiNx/SiOx; Атомно-шарове осадження (ALD) використовує TMA та H₂O для формування шарів інкапсуляції Al₂O3; Сухе травлення забезпечує високоточне формування візерунків за допомогою газів, таких як CF4/SF6/Cl2, де BCl3 використовується для зменшення шарів оксиду металу, а Cl2 генерує леткі продукти травлення, забезпечуючи чистий та ефективний процес.

  У гнучкому виробництві AMOLED лазерний знімок (LLO) і тонкоплівкова інкапсуляція (TFE) мають вирішальне значення для надійності продукту. Процес LLO використовує ексимерний лазер 308 нм XeCl для відділення гнучкої підкладки PI від скляної підкладки, тоді як технологія TFE використовує багатошарові тонкі плівки для блокування вологи та кисню, подовжуючи термін служби пристрою.

  Крім того, процес іонної імплантації (IMP) використовує BF3/PH3/H2 для створення легуючих атомів, а Xe служить нейтралізуючим газом для запобігання накопиченню заряду.

  Оскільки технологія дисплеїв розвивається в напрямку гнучкості та високої роздільної здатності, вимоги до складності та точності процесу виробництва AMOLED продовжують зростати. Поєднуючи переваги технологій AMOLED і LCD, CNK Electronics постійно оптимізує продуктивність і надійність модулів взаємодії людини і машини HMI, надаючи інноваційні рішення для відображення споживчої електроніки, промислового керування та інших галузей.

Про CNK

  Заснована в Шеньчжені в 2010 році компанія CNK Electronics (коротко CNK) розширила провідну світову фабрику в Луняні, Фуцзянь, у 2019 році. Це спеціалізоване та інноваційне підприємство, що спеціалізується на проектуванні, розробці, виробництві та продажу дисплеїв. CNK надає клієнтам повний спектр економічно ефективних дисплеїв малого та середнього розміру, рішень і послуг з відмінною якістю по всьому світу. Орієнтована на технології та високу якість, CNK зберігає стійкий розвиток, працює над тим, щоб пропонувати клієнтам  кращі та стабільні послуги.